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改進(jìn)研發(fā)鈦合金件內(nèi)外雙靶材磁控濺射鍍鋁設(shè)備
本文研究了鈦合金件內(nèi)外雙靶材磁控濺射鍍鋁設(shè)備的改進(jìn)。通過對現(xiàn)有設(shè)備的分析和問題檢測，提出了改進(jìn)方案并進(jìn)行了實驗驗證。結(jié)果表明，改進(jìn)后的設(shè)備可以更有效地實現(xiàn)鈦合金件的鍍鋁處理，提高鍍層的質(zhì)量和穩(wěn)定性。
넶214 2023-04-25 -
磁控濺射制備Ta-Cr非晶合金鍍層及其性能
本文采用真空磁控濺射法，采用雙靶共濺射法，通過調(diào)節(jié)濺射功率制備了不同鉭含量的Ta-Cr二元非晶合金涂層，并對涂層的表觀形貌和物理性能進(jìn)行了研究。研究過。的特征。研究了鉭含量對涂層力學(xué)性能和耐腐蝕性能的影響。
넶651 2023-03-20 -
不銹鋼基片鍍ZnO薄膜的工藝與研究
ZnO作為一種新型的光電材料，在光波導(dǎo)、半導(dǎo)體紫外激光器、發(fā)光器件、壓電傳感器和透明電極等方面有著廣泛的應(yīng)用本文綜述了在不銹鋼襯底上制備ZnO薄膜的方法和工藝......
넶107 2023-03-03 -
陶瓷靶材（氧化鋅鋁ZAO）制備及其薄膜性能研究
研究了ZAO靶材與無氧銅的粘接性能、ZAO靶材與無氧銅的粘接性能。通過溶膠、凝膠方法制備的ZnO和Al2O3混合粉末經(jīng)冷壓預(yù)成型加真空低壓燒結(jié)，制備了高致密度(相對密度99％)、低成本的ZAO陶瓷靶材。用中頻交流磁控濺射ZAO靶材的工藝制備了ZAO薄膜。利用SEM掃描電鏡和XRD分析測試了陶瓷靶材斷口形貌以及靶材和薄膜的結(jié)構(gòu)。
넶129 2023-01-29 -
氧氣流量及燒結(jié)保溫時間對 ITO 靶材的相含量與電阻率的影響
采用注漿成型法在不同燒結(jié)參數(shù)下制備 lTO 靶材,研究不同氧氣流量及燒結(jié)保溫時間對 lTO 靶材的相含量與電阻率的影響。 通過 X 射線衍射(XRD)和掃描電鏡(SEM)對 lTO 靶材的物相組成以及微觀組織形貌進(jìn)行表征,運用 Rietveld 法對樣品 XRD 數(shù)據(jù)進(jìn)行結(jié)構(gòu)精修以計算其相含量。研究結(jié)果表明:靶材均由主相(ln2O3 相)以及第二相(ln4Sn3O12 相)組成。 當(dāng)氧氣流量由 40 L / min 提高到 160 L / min 時,第二相含量由 19. 82%(質(zhì)量分?jǐn)?shù),下同)逐漸增加到 25. 83%;當(dāng)保溫時間由 6 h 延長到 12 h 時,第二相含量由 19. 79% 逐漸增加到 31. 27%。 對不同氧氣流量以及燒結(jié)保溫時間下所制備的樣品進(jìn)行相對密度以及電阻率測定,結(jié)果表明,靶材密度是影響其電阻率的最主要因素,靶材的電阻率隨著密度的增加而降低。靶材密度相近時,靶材相含量對其電學(xué)性能有較大的影響,此時靶材的電阻率隨著第二相含量的增加而增大。
넶451 2022-12-29
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