新品研發(fā)
您當前所在的位置：
改進研發(fā)鈦合金件內(nèi)外雙靶材磁控濺射鍍鋁設備
發(fā)布：2023-04-25
-
鈦合金件內(nèi)外雙靶材磁控濺射鍍鋁設備改進研發(fā)
真空離子鍍鋁過程無三廢即廢水、廢氣、廢渣產(chǎn)生，已成為廣泛研究的熱點。本文分析了真空離子磁控濺射鍍鋁設備原理結(jié)構(gòu)和設計流程，引入閉合磁場非平衡磁控濺射技術(shù)思路，對比直流單靶材磁控濺射和內(nèi)外雙靶材磁控濺射中的電磁場分布和等離子體分布，將 2 個直流內(nèi)單圓柱靶改制為 4 個磁極相對的內(nèi)外雙圓柱靶結(jié)構(gòu)，構(gòu)建內(nèi)靶磁場和外靶磁場相反的閉合磁場，研發(fā)滿足涂層綜合性能要求且適于批量生產(chǎn)的鍍鋁設備，助推國內(nèi)新型裝備高質(zhì)量發(fā)展和清潔節(jié)能生產(chǎn)。
넶105 2022-03-04
發(fā)布：2023-03-20
-
磁控濺射制備Ta-Cr非晶合金鍍層及其性能
本文采用真空磁控濺射法，采用雙靶共濺射法，通過調(diào)節(jié)濺射功率制備了不同鉭含量的Ta-Cr二元非晶合金涂層，并對涂層的表觀形貌和物理性能進行了研究。研究過。的特征。研究了鉭含量對涂層力學性能和耐腐蝕性能的影響。
넶648 2023-03-20
發(fā)布：2023-03-03
-
不銹鋼基片鍍ZnO薄膜的工藝與研究
ZnO作為一種新型的光電材料，在光波導、半導體紫外激光器、發(fā)光器件、壓電傳感器和透明電極等方面有著廣泛的應用本文綜述了在不銹鋼襯底上制備ZnO薄膜的方法和工藝......
넶107 2023-03-03
發(fā)布：2023-01-29
-
陶瓷靶材（氧化鋅鋁ZAO）制備及其薄膜性能研究
研究了ZAO靶材與無氧銅的粘接性能、ZAO靶材與無氧銅的粘接性能。通過溶膠、凝膠方法制備的ZnO和Al2O3混合粉末經(jīng)冷壓預成型加真空低壓燒結(jié)，制備了高致密度(相對密度99％)、低成本的ZAO陶瓷靶材。用中頻交流磁控濺射ZAO靶材的工藝制備了ZAO薄膜。利用SEM掃描電鏡和XRD分析測試了陶瓷靶材斷口形貌以及靶材和薄膜的結(jié)構(gòu)。
넶129 2023-01-29
新品資料
江西國材科技有限公司
CHINA MATERIAL TECHNOLOGYCO.,LTD.
總機：0791-88165996
手機 / 微信：189 0709 5992
郵箱：sales@mat-cn.com
江西省南昌市國家高新技術(shù)開發(fā)區(qū)艾溪湖北路188號
